Ch.3 Blender 에셋 정리 & 활용

UV 언래핑 & 텍스처 베이킹

Smart UV Project와 수동 Seam 방식의 차이를 이해한다하이폴리에서 로우폴리로 Normal/AO/Color를 베이킹할 수 있다베이킹 설정(Ray Distance, Cage, Selected to Active)을 올바르게 구성할 수 있다

3D 모델에 옷을 입히려면 먼저 패턴을 펼쳐야 합니다

AI가 생성한 100만 폴리곤 메쉬의 디테일을 살리면서, 5,000 폴리곤 게임 에셋으로 만들어야 합니다.

폴리곤을 줄이면 디테일이 사라집니다. 높은 디테일을 낮은 폴리곤에 '기록'하는 방법이 필요합니다.

UV 언래핑으로 텍스처 좌표를 만들고, 베이킹으로 하이폴리 디테일을 로우폴리 텍스처에 구워내면 됩니다.

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핵심 내용

UV 언래핑은 3D 표면을 2D 평면으로 펼치는 작업입니다. 옷감을 재단할 때 입체 형태를 평면 패턴으로 펼치듯, 3D 메쉬의 각 면을 2D 이미지 위에 배치합니다. 이 2D 좌표(U, V)에 텍스처를 매핑하면 3D 모델에 그림이 입혀집니다.

AI 생성 메쉬는 대부분 UV가 없거나 버텍스 컬러만 존재합니다. 텍스처를 교체하거나 게임엔진에서 사용하려면 반드시 UV를 새로 만들어야 합니다.

Blender에서 UV를 만드는 두 가지 대표 방법을 비교합니다.

Smart UV Project (자동): 한 번 클릭으로 자동 분리. 빠르지만 아일랜드가 비효율적으로 배치됨. 소품·프로토타입용

Seam-based Unwrap (수동): 직접 심(Seam)을 지정하여 펼침. 정밀한 배치 가능. 캐릭터·히어로 에셋용

Smart UV Project 권장 설정: Angle Limit 66°, Island Margin 0.02. 이 값이면 대부분의 AI 메쉬에서 합리적인 결과를 얻을 수 있습니다.

텍스처 베이킹은 하이폴리 메쉬의 표면 정보를 로우폴리 메쉬의 2D 텍스처 이미지에 굽는 과정입니다. 100만 폴리곤의 디테일을 5,000 폴리곤 + 텍스처 맵 조합으로 재현할 수 있습니다.

배치: 하이폴리 + 로우폴리를 같은 위치에 정렬

Image Texture: 로우폴리 Shader Editor에서 새 Image Texture 노드 생성

노드 선택: Image Texture 노드를 활성 상태로 유지 (베이킹 타겟)

Bake 패널: Render Properties > Bake 패널 열기

Selected to Active: 활성화하여 하이폴리→로우폴리 전사 모드 설정

베이킹 실행: Normal → AO → Diffuse 순서로 각각 베이킹

베이킹 품질은 설정값에 크게 좌우됩니다. 아래 핵심 파라미터를 올바르게 설정하세요.

key

Normal (Tangent Space) — 표면 디테일. Diffuse — 색상. AO — 그림자 정보

0.01~0.1 범위. 하이폴리→로우폴리 간격만큼. 너무 크면 다른 파트 간섭

로우폴리보다 약간 큰 케이지 메쉬. 복잡한 형상에서 아티팩트 방지

반드시 활성화. 하이폴리(선택) → 로우폴리(활성)로 정보 전사

퀴즈와 인터랙션으로 더 깊이 학습하세요